¡Diseño de edición limitada de Cinnamoroll!
Un polvo prensado con cobertura de nivel base que cuida incluso la piel áspera.
Contiene el ingrediente preventivo de la aspereza de la piel “estearil glicirretinato”.
Cubre manchas, poros e imperfecciones con alta cobertura sin sentirse pesada.
La protección UV de más alto estándar de Japón con SPF50+/PA++++.
Polvo mineral suave para la piel que se puede retirar con jabón.
Cómo utilizar:
Tome una cantidad adecuada presionando suavemente con la borla, retire el exceso de polvo con el dorso de la mano y luego aplíquelo sobre su piel.
Al retocarte el maquillaje, usa un pañuelo para retirar el exceso de sebo de tu rostro y sécalo dando toques.
Ingredientes principales
Esta lista de ingredientes representa todas las opciones o variantes de este producto. Los ingredientes reales en una opción de producto dada pueden variar de esta lista.
Ingredientes sujetos a cambios a discreción del fabricante.. Para obtener la lista de ingredientes más completa y actualizada, consulte el empaque del producto.
MSH hace que su clientela se sienta feliz y hermosa con su gama de cuidado de la piel y maquillaje para el día a día.. Popular en su país de origen, Japón, MSH aparece frecuentemente en publicaciones de moda y belleza como VOCE, ViVi, JELLY, Popteen y más.. La marca se centra en tres líneas principales de productos: Los delineadores chic y elegantes de Love Liner, el maquillaje de base de aspecto natural y cómodo de TIME SECRET, y los productos de cuidado de la piel mínimos y suaves de KIREIMO.
Ingredientes : Estearil glicirretinato, L-aspartato de magnesio, gluconato de zinc, gluconato de cobre, aceite de limnanthes alba, extracto de Kumazasa, extracto de aloe (2), hidroxiapatita, óxido de zinc, extracto de edad, extracto de alcachofa, ectoína, N-estearoil esfingosina, hialuronato de sodio (2), azúcar isomerizado, di N-lauril-L-glutamato(fitosteril 2-octildodecilo), 1, 3-butilenglicol, agua purificada, glicerina concentrada, d-δ-tocoferol, hidróxido de aluminio, ácido esteárico, metilpolisiloxano reticulado, polvo de nailon, sericita, miristato de magnesio, flogopita sintética (2), dimiristato de aluminio, Polímero de bloque de silicona reticulada/silicona reticular, nitruro de boro, Nε-lauril-L-lisina, metilhidrogenopolisiloxano, metilpolisiloxano, metilpolisiloxano altamente polimerizado (1), ácido trimetilsiloxisilicílico, metilfenilpolisiloxano, fenoxietanol, etanol, parametoxisiloxano 2-etilhexil senato, 2-[4-(dietilamino)-hexil éster del ácido 2-hidroxibenzoil]benzoico, óxido de titanio de partículas finas, óxido de zinc cocido a baja temperatura, óxido de titanio, talco, óxido de hierro amarillo, óxido de hierro rojo, óxido de hierro negro, ácido silícico anhidro, mica
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